划痕实验/细胞迁移可以使用不同的方法在细胞单层创建间隙（称为“划痕”）：
插件：在细胞接种前通过将插件/模具放置在培养表面，来形成无残留的空白区域/划痕；
刮擦：通过刮擦表面来制造人工“划痕“机械去除细胞（划痕分析）
阻抗：通过在指定区域施加电压来去除细胞而创建间隙
有关如何创建间隙的更多详细信息和方法，可查看此评论：
W.J. Ashby, A. Zijlstra. Established and novel methods of interrogating two-dimensional cell migration. Integr Biol 2012, 10.1039/c2ib20154b
使用ibidi划痕插件创建间隙
ibidi提供三种不同规格的划痕插件用于间隙的创建：ibidi有2孔、3孔和4孔插件（也有预置了2孔、3孔和4孔插件的培养皿）。由于特殊的底部（静电黏附底部）设计，插件（生物相容硅胶材料）可粘附在培养器皿的表面。移除插件后，可形成无细胞残留的空白间隙。此种方法使得在没有任何细胞残留的情况下，可重复地产生高度限定的空白间隙。
当放置在平滑、干燥的表面上时，Culture-Insert 2 Well提供两个用于培养细胞的储液池，两个储液池由500μm厚的壁隔开。将细胞接种到储液池中并培养直至细胞附着并形成单层，从表面移除硅胶插件后会产生两个被插件中间壁隔开的精确定义的宽度完全相同的细胞区块。现在可以通过使用活细胞成像或在不同时间点拍摄照片来监测细胞迁移。
Culture -Insert 3 Well提供三个细胞培养池。可创建两个各500 µm的无细胞间隙，因此适合分析两个技术重复或不同细胞类型的迁移。
Culture -Insert 4 Well提供四个细胞培养池。除了四个500 µm无细胞间隙外，还可产生一个1mm的中心间隙。Culture-Insert 4 Well可最多观察四个技术重复或不同细胞类型的迁移。
使用ibidi Culture-Insert 4 Well进行伤口愈合和迁移测定
ibidi 3孔/4孔两者都可以在药物治疗或基因沉默/过度表达（例如，通过 CRISPR/Cas9、siRNA、mRNA）后进行细胞迁移分析。重要的是，未经处理的对照细胞可以在同一容器中接种和分析，共享相同的培养基。
与其他间隙产生技术不同，ibidi划痕插件系列产品还适用于2D侵袭实验和同时使用两种、三种甚至四种细胞类型或处理的共培养实验。
通过刮擦创造间隙
进行划痕测定时，细胞会生长直至形成单层。然后，用移液管尖端或针头手动刮擦细胞表面以产生伤口。通过在不同时间点拍摄照片或活细胞成像来监测伤口闭合和细胞迁移。
关于再现性，该方法有一定的缺点：
间隙的宽度在很大程度上取决于施加到移液器尖端的压力和其尺寸。
刮擦会以不可复制的方式去除表面涂层。这改变了细胞在该区域的粘附和迁移。
去除的细胞以不可重现的方式在划痕边缘形成活细胞和死细胞团。活细胞的扩散会覆盖迁移的速度。
乍一看，枪刮和放置插件的方法似乎是两种非常相似的创建无细胞间隙的方法。然而，仔细观察，这两种方法可能在重要检测结果方面的影响存在差异：
与枪头划痕检测相比，ibidi划痕插件可提供更高的重现性
细胞迁移导致开放区域随时间变化。使用ibidi Culture-Insert 2 well(左)和使用移液器吸头刮擦(右)产生间隙的对比。数据来源：德国弗莱堡大学的M. Börries。
使用阻抗的划痕实验
ECIS伤口愈合实验取代了传统的划痕实验。ECIS System不是用移液管尖端机械地破坏细胞层，然后用显微镜跟踪细胞的迁移，而是使用电信号对伤口进行监测，然后监测愈合过程。基于阻抗的伤口愈合实验的优点包括：
•可同时进行多达96次伤口愈合实验
•直接推导时间常数和伤口愈合速度
•经济高效的筛选应用，从低通量到高通量
电击伤前(左)和电击伤后(右)的细胞层。圆圈标记电极区域，此处细胞暴露在电中
在与250μm电极接触的一小群细胞上进行点击伤，从而产生明确的伤口。损伤区域内的细胞密度由阻抗反映，由ECIS系统连续测量。受伤后，电极周围的健康细胞立即迁移并取代电极上的死细胞，导致测量阻抗值的变化。根据细胞培养基中胎牛血清(FCS)的浓度，在10、13或20小时后再次达到原始细胞密度。
对与250µm电极接触的少量细胞进行电损伤，从而形成明确的伤口。受伤区域内的细胞密度由阻抗反映，该阻抗由ECIS系统连续测量。受伤后，电极周围的健康细胞立即迁移并替换电极上的死细胞，导致测量阻抗值发生变化。根据细胞培养基中胎牛血清（FCS）的浓度，在10、13或20小时后再次达到原始细胞密度。
在细胞培养基中使用不同浓度（0%、1%和10%）的FCS对时间依赖性伤口闭合进行基于阻抗的分析
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